前驱体通常指的是在材料制备过程中，一种用于合成或制备其他物质的中间形态的物质。在半导体制造的薄膜沉积工艺中，前驱体是关键材料，主要用于气相沉积（包括物理沉积PVD、化学气相沉积CVD及原子气相沉积ALD）镀膜过程，以形成半导体制造要求的各种薄膜材料，也可用于半导体外延生长、刻蚀、离子注入掺杂以及清洗等。
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